电解处理去除镀液金属

作者:沙巴体育app登录发布时间:2020-01-08已浏览: 178次

沙巴体育app登录電解處理是大家在電鍍工業中常用的去除雜質的方法。電解處理亦是一個電鍍過程,不過它不是以獲得良好電鍍層為目的,而是以去除雜質(或調整鍍液成分含量)為目的。所不同的只是在陰極上不吊掛零件,而是改為吊掛以去除雜質而制作的電解板(又稱假陰極)。在通電的情況下,使雜質在陰極電解板上沉積、夾附或還原成相對無害的物質。在少數情況下,電解去除雜質也有在陽極上進行的,使某些能被氧化的雜質,在通電的情況下,到達陽極上氧化為氣體逸出或變為相對無害的物質。

①電流密度:電解處理時,以控制多大的電流密度為好,原則上要按照電鍍時雜質起不良影響的電流密度范圍。也就是說,在電鍍過程中,若雜質的影響反映在低電流密度區,那么電解處理時應控制在低電流密度下進行,假使雜質的影響反映在高電流密度區,則應選用高電流密度進行電解;如果雜質在高電流密度區和低電流密度區都有影響,那么可先用高電流密度電解處理一段時間,然后再改用低電流密度電解處理,直至鍍液恢復正常。在一般情況下,凡是用低電流密度電解可以去除的雜質,為了減少鍍液中主要放電金屬離子的沉積,一般都采用低電流密度電解。事實上,電鍍生產中,多數雜質的影響反映在低電流密度區,所以通常電解處理的電流密度控制在0.1A/dm2~0.5A/dm2之間。

②溫度和pH值:電解處理時溫度和pH的選擇,原則上也是要根據電鍍時雜質起不良影響較大的溫度和pH范圍。例如鍍鎳溶液中的銅雜質和NO3-雜質,在pH較低時的影響較大,所以電解去除鍍鎳溶液中的銅雜質和NO3-雜質時,應選用低pH進行電解,在這樣的條件下,去除雜質的速率較快。有些雜質在電解過程中會分解為氣體(如NO3-在陰極上還原為氮氧化物或氨,Cl-在陽極上氧化為Cl2,等,這時就應選用高溫電解,使電解過程中形成的氣體揮發逸出(氣體在溶液中的溶解度,一般隨溫度升高而降低),從而防止它溶解于水而重新沾污鍍液。